高鈰拋光液的關鍵技術:公司采用合成濕法磨工藝制成高純度超細納米級鈰基稀土拋光粉,通過將高純度超細納米級鈰基稀土拋光粉液體化,按照相應的比例和參數,物理合成適量的稀土元素,通過合成、過濾、分級等工藝,使產品滿足不同拋光產品和材質的要求。應用領域:該系列產品主要用于集成電路、半導體硅片、電子芯片等產品的拋光。
合成法鑭鈰拋光粉
鈰基拋光粉
鈰基拋光液
合成法鑭鈰拋光液
氧化鑭鈰稀土拋光液